● 爐體設計為開啟式，以便于更換爐管
● 工作電源：208 - 240 VAC, 50/60Hz
● 最大功率為：2KW
● 最高工作溫度：1200℃（<1hr)
● 連續工作溫度：1100℃
● 加熱區長度：200mm
● 爐管：高純石英管，尺寸50mm?O.D?x?44mm?I.D?x?450mm?L)

● 采用PID30段程序化控溫，其控溫精度為+/-1℃
● 設有過熱和斷偶保護
● 熱電偶采用K型熱電偶

● 采用KF結構密封法蘭，硅膠密封圈密封
● 法蘭上安裝有一機械壓力表
● 右端法蘭與一個真空不銹鋼波紋管連接（不銹鋼波紋管最大伸縮幅度為150mm)
● 真空度：10-2Torr(用機械泵抽）  10-5Torr(用分子泵抽）

● 一個直徑為1/4＂的歐米伽鎧裝熱電偶（K型），通過法蘭伸入到爐管中，并可隨坩堝移動，可實時監測樣品的實際溫度。
● 通過步進電機移動爐管內的坩堝（樣品臺），最大行程為100mm，移動精度為1mm
● 通過觸摸屏設定坩堝一定的距離和目標位置，坩堝移動速度為180mm/min(更精確的移動速度，可與本公司聯系定制，需額外收費）
● 可觀察下圖，了解坩堝與熱電偶的安裝方法

可通過移動樣品到已預加熱的爐體中來得到最大的加熱速率，也可將樣品迅速移除高溫的爐體，來得到最大的降溫速率

             最大加熱速率:                                                         最大降溫速率
             10℃/sec (150℃ - 250℃);                                      10℃/sec (950℃ - 900℃);
              7℃/sec (250℃ - 350℃);                                        7℃/sec (900℃ - 850℃);
              4℃/sec (350℃ - 500℃);                                        4℃/sec (850℃ - 750℃);
              3℃/sec (500℃ - 550℃);                                        2℃/sec (750℃ - 600℃);
              2℃/sec (550℃ - 650℃);                                        1.5℃/sec (600℃ - 500℃);
              1℃/sec (650℃ - 800℃);                                        1℃/sec (500℃ - 400℃);
              0.5℃/sec (800℃ - 1000℃)                                     0.5℃/sec (400℃ - 300℃);
                                                          

● 可選購手動擋板閥
● 防腐型數顯真空計
● 快速連接法蘭，以方便于放置樣品
● 多路質量流量計控制的混氣系統，用于CVD和DVD實驗

可選配石英氣體噴嘴，將反應氣體與緩沖清洗氣體分開通入，可有效減少副反應發生，實現高端CVD工藝，如局部控制前體濃度化學氣相沉積工藝（ALC CVD）或單晶二維材料薄膜的生長工藝等。

● 此款設備可用于多種實驗，以下列出了幾種實驗方法
   RTE（快速熱蒸發）：蒸發料放在坩堝中，放入到爐體中心，基片放在樣品臺上，樣品臺與熱電偶相連接，然后將樣品臺移動到理想的位置（此位置溫度是實驗所需要的溫度）
   HPCVD（混合物理化學沉積）：與RTE相似，但需配混氣系統，對反應氣體混合并控制流量，同時也需設定蒸發料的位置（確定蒸發料的蒸發溫度） 

   水平布里奇曼（Bridgman）法來長晶體：將樣品和籽晶放入到坩堝中，并將坩堝放入到爐體中心位置，然后設定坩堝移動速度，慢慢移動坩堝。

所有電器元件（>24V）都通過UL?/?MET?/?CSA認證/ CE認證 ,若客戶出認證費用，本公司保證單臺設備通過德國TUV認證或CAS認證