PCE-22-LD 紫外臭氧清洗機
應用范圍：PCE-22-LD是一款可加熱的紫外臭氧清洗機，其加熱溫度可達150℃。此款設備可用于清洗各種基片，為制作高質量的薄膜打好基礎。特別適合移除光刻膠，改善表面潤濕性，清洗SEM＆TEM，紫外對聚合物改性等。紫外臭氧清洗提供了一種無酸、干燥對材料無損傷的原子級別清洗手段，特別適合清除一些有機化合物，紫外燈主要發出兩種波長的光：185nm和254nm，其中185nm的光可把空氣中的氧氣變為臭氣，254nm可以破壞化合物中的鍵（特別是碳碳鍵）。所以這兩種波長的光組合可有效的清除有機化合物。
產品型號：PCE-22-LD
設備尺寸：約L550*W520*H335mm
重量：約30kg
上架時間：2024-04-16
版本號：V1.0
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PCE-22-LD是一款可加熱的紫外臭氧清洗機，其加熱溫度可達150℃。此款設備可用于清洗各種基片，為制作高質量的薄膜打好基礎。特別適合移除光刻膠，改善表面潤濕性，清洗SEM＆TEM，紫外對聚合物改性等。紫外臭氧清洗提供了一種無酸、干燥對材料無損傷的原子級別清洗手段，特別適合清除一些有機化合物，紫外燈主要發出兩種波長的光：185nm和254nm，其中185nm的光可把空氣中的氧氣變為臭氣，254nm可以破壞化合物中的鍵（特別是碳碳鍵）。所以這兩種波長的光組合可有效的清除有機化合物。
| 功能特點 |
|---|
- 僅室內使用；海拔高度5500英尺以內；
- 溫度范圍：5-40℃；
- 最大相對濕度80%，最高30.5℃，40℃線性降至50%相對濕度；
- 主電源波動不超過額定電壓的10%；
- 污染等級2；臭氧水平（環境）測量＜45ppb；
- 可去除分子級別的污染物；
- 可清洗MEMS器件；
- 可清洗各種基片，如si,Ge,GaAs和各種氧化物單晶基片。
| 技術參數 | |
|---|---|
| 電源 | 單相AC220V±10%，頻率：50Hz/60Hz，功率約1KW |
| 工作環境 | 室內使用，溫度：5～40℃，最大相對濕度80%，海拔5500英尺以內 |
| 腔體&樣品臺 |
不銹鋼殼體
抽屜式樣品臺，以便放樣取樣 基片臺尺寸：310mm*320mm 臭氧通風裝置安裝在腔體上 樣品臺與紫外燈的距離：20mm-40mm范圍內可調 樣品臺可以加熱，最高溫度可達150℃ 可設置8段升降溫程序，控溫精度為±1℃ 照射設定時間：1min-9999min |
| 觸摸屏＆加熱 |
4.5英寸觸摸屏控制加熱和清洗功能 點擊觸摸屏上的“溫控程序”即可進入程序設置界面，內置溫控儀表采用PID方式調節，可設置30段升溫程序，設備只顯示8段升溫程序，可根據實際要求進行添加 設備加熱前需進行預熱處理 |
| 排氣口 |
直徑為80mm的排氣口安裝在儀器后端 將鋁波紋管與排氣口連接，將臭氧排出到實驗室外 橡膠管長度8米 
|
| 紫外燈 |
UV燈管： 功率：210W 發出光的波長：254nm和185nm 照射區域：200*200mm 可以清潔直徑最大為12英寸×35mm的晶體晶片 |
| 外形尺寸 | 約L550*W520*H335mm |
| 重量 | 約30kg |
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