應用范圍:GSL-1100X-PJF-A是等離子槍和可控制的樣品臺結合在一起的產品,有自動控制的樣品臺,就可使等離子槍按設定程序對樣品表面進行更均勻涂覆和處理,保證處理樣品表面的一致性和均勻性。此系統是由RF發生器、氣體傳輸管、等離子槍頭和X-Y移動的工作臺(帶有真空吸盤和控制盒)。此系統產生等離子束可在非真空和低溫狀態下活化和清洗樣品表面,可處理的樣品有單晶片,光學元件和塑料等,也可在常壓下進行等離子增強氣相沉積。
產品型號 :GSL-1100X-PJF-A
上架時間 :2019-09-04
安裝尺寸:處理樣品臺尺寸:560mm L x483mm W x 609mm H
等離子源尺寸: 406mm L x 508mm W x 230mm H
控制盒尺寸:330mm L x 305mm W x 152mm H
重量:55kg
GSL-1100X-PJF-A是等離子槍和可控制的樣品臺結合在一起的產品,有自動控制的樣品臺,就可使等離子槍按設定程序對樣品表面進行更均勻涂覆和處理,保證處理樣品表面的一致性和均勻性。此系統是由RF發生器、氣體傳輸管、等離子槍頭和X-Y移動的工作臺(帶有真空吸盤和控制盒)。此系統產生等離子束可在非真空和低溫狀態下活化和清洗樣品表面,可處理的樣品有單晶片,光學元件和塑料等,也可在常壓下進行等離子增強氣相沉積。
性能指標和基本配置 | |
---|---|
主要參數 |
● 工作環境:溫度 < 42°C,濕度 ≤ 40℃RH |
RF發生器 |
● 輸出頻率:20-23kHz , 25KV |
輸入氣體氣壓,工作氣體 |
● 40 PSI min.(0.055 Mpa) |
樣品臺和控制柜 |
● 配有可在X-Y軸移動的樣品臺,通過步進電機驅動,采用SBC控制盒控制 |
外形尺寸 |
處理樣品臺尺寸:560mm L x483mm W x 609mm H |
凈重 |
55kg |
文獻 |
請點擊鏈接以了解更多關于AP-PECVD應用的信息:常壓等離子體增強化學氣相沉積(AP-PE-CVD)用于在低溫下生長薄膜。 |
質量認證 |
所有電器元件(>24V)都通過UL/MET/CSA/CE認證,若客戶出認證費用,本公司保證單臺設備通過德國TUV認證或CAS認證。 |
保修期 |
一年保修,終身技術支持。 特別提示: 1.耗材部分如加熱元件,石英管,樣品坩堝等不包含在內。 2.因使用腐蝕性氣體和酸性氣體造成的損害不在保修范圍內。 點擊查看售后服務承諾書。 |
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